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平行光曝光機雙工位曝光機專門用于FILM黃光制程而設計制作的專用設備，系統采用進口平行光源、雙工位抽屜進出曝光平臺交替工作進行FILM濕膜、干膜曝光。雙工位平臺真空吸附將FILM與MASK貼緊，曝光解析度20UM。
尺寸規(guī)格:
有效曝光面積400MM x 500MM
曝光平臺面積> 500MM x 600MM
機臺外尺寸: W1350MM x L3250MM x H2350MM
曝光方式:單面曝光，玻璃VS玻璃x 2組，采用電磁鎖控制
曝光燈管: 5KW x 1PCS(平行光曝光燈)
曝光光強> 20MW/Cm，燈管保用800H
平行光曝光機曝光均勻度: > 90%
曝光精度:線路寬30UM，線間距30UM
曝光能量設置: 365NM
曝光控制器:智慧型人機界面及曝光能量控制(能量模式及時間模式)
設備型號：ZKUE-M552平行光曝光機

正凱機電作為光和熱系列自動化設備制造商曝光機為各類產品之一。19年的研發(fā)、設計、制作設備的專業(yè)經驗，可根據客戶需求定制設備。如有需要請聯系13960450755或搜索正凱機電設備了解更多信息。